近日，LetsGoDigital发现了苹果在日本专利局注册了全新的设计专利，该设计专利有可能会被采用到2020年的新款iPhone中去。对于期待在设计上进行更新的果粉们来说，这无疑是个好消息。
根据新设计专利显示，从曝光用户界面来看，苹果iPhone未来或将取消陪伴大家已久的“刘海”和Face ID，取而代之的是屏下指纹和Touch ID回归。外媒也指出这项设计很有可能就是2020年新款iPhone所采用的设计，在设计改变之余，其还将采用屏下前置镜头。不过预计这样设计和变化会仅限在iPhone 12系列最高端的型号中出现。
从示意图来看，取消了刘海后新iPhone也将迎来更高的屏占比，视觉观感也更加顺眼，“强迫症患者”看了估计也会为此欢呼。搭配上传闻今年新iPhone要回归使用高通基带以及推出5G版本的信息，相信不少果粉肯定会为了设计、信号升级和5G的加入选择更新设备。
当然，从现阶段来看，这样的设计还是存在一定的量产难度的。首先，尚未正式商用的屏下摄像头是否已达到苹果的高要求？这点还不得而知，毕竟屏下摄像头技术也仅在部分原型机出现过。以往常来说，苹果很少会在iPhone中采用相对激进的新技术。所以今年新iPhone能否用真如专利显示的这样设计，最终还得取决于相应的技术是否成熟。
科客点评：新设计、新技术的确是能提高大家的换机欲望，在竞争愈发激烈的手机市场来说，苹果确实也需要这样的新策略来促进销量。 返回搜狐，查看更多
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